पीवीडी हाइब्रिड पतली फिल्म जमाव प्रणाली

पीवीडी हाइब्रिड पतली फिल्म जमाव प्रणाली

विवरण
पीवीडी हाइब्रिड थिन फिल्म डिपोजिशन सिस्टम एक एकल वैक्यूम आर्किटेक्चर के भीतर थर्मल वाष्पीकरण, इलेक्ट्रॉन बीम (ई -बीम) वाष्पीकरण, और आरएफ/डीसी मैग्नेट्रोन स्पटरिंग को एकीकृत करता है। यह प्लेटफ़ॉर्म वैक्यूम को तोड़े बिना, इंटरफेशियल ऑक्सीकरण को रोकते हुए, धातुओं, मिश्र धातुओं और डाइलेक्ट्रिक्स के अनुक्रमिक या सह-{2}} जमाव को सक्षम बनाता है। अनुसंधान एवं विकास संस्थानों और पायलट उत्पादन लाइनों के लिए इंजीनियर किया गया यह सिस्टम स्वचालित बहु-अक्ष रोटेशन के साथ 6 इंच तक सब्सट्रेट को संभालता है।
उत्पाद वर्गीकरण
पीवीडी कम्पोजिट पतली फिल्म उपकरण
 
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विवरण
तकनीकी पैरामीटर

पीवीडी हाइब्रिड थिन फिल्म डिपोजिशन सिस्टम एक एकल वैक्यूम आर्किटेक्चर के भीतर थर्मल वाष्पीकरण, इलेक्ट्रॉन बीम (ई -बीम) वाष्पीकरण, और आरएफ/डीसी मैग्नेट्रोन स्पटरिंग को एकीकृत करता है। यह प्लेटफ़ॉर्म वैक्यूम को तोड़े बिना, इंटरफेशियल ऑक्सीकरण को रोकते हुए, धातुओं, मिश्र धातुओं और डाइलेक्ट्रिक्स के अनुक्रमिक या सह-{2}} जमाव को सक्षम बनाता है। अनुसंधान एवं विकास संस्थानों और पायलट उत्पादन लाइनों के लिए इंजीनियर किया गया यह सिस्टम स्वचालित बहु-अक्ष रोटेशन के साथ 6 इंच तक सब्सट्रेट को संभालता है।

 

तकनीकी निर्देश

 

पैरामीटर

विनिर्देश

अंतिम आधार दबाव

< 5.0 x 10^-6 Pa (baked out)

पम्प-डाउन टाइम

< 15 minutes to 1.0 x 10^-3 Pa

सब्सट्रेट का आकार

6-इंच व्यास तक के वेफर/कस्टम धारक

फिल्म की मोटाई एकरूपता

<= +/- 1% across a 4-inch substrate (planetary rotation)

निक्षेपण स्रोत

3 ई-बीम पॉकेट, 2 थर्मल बोट, 4 मैग्नेट्रोन कैथोड तक

सब्सट्रेट तापमान

परिवेश से 800 डिग्री सेल्सियस (पीआईडी ​​नियंत्रित)

चैम्बर सामग्री

304L / 316L इलेक्ट्रोपॉलिश स्टेनलेस स्टील

सुरक्षा अनुपालन

सीई अनुरूप; अनुरोध पर यूएल/एनएफपीए मानकों के अनुसार निर्मित घटक

 

प्रमुख विशेषताऐं


मॉड्यूलर सॉकेट:विनिमेय स्रोत फ़्लैंज स्पटरिंग कैथोड और थर्मल/ई-बीम बाष्पीकरणकर्ताओं के बीच तेजी से पुनर्संरचना की अनुमति देते हैं।


अलगाव वास्तुकला:वायवीय गेट वाल्व कण उत्पादन को कम करने के लिए प्रक्रिया कक्ष को उच्च - वैक्यूम स्टैक से अलग करते हैं।


-सीटू मॉनिटरिंग में:क्वार्ट्ज क्रिस्टल माइक्रोबैलेंस (क्यूसीएम) सेंसर और ऑप्टिकल उत्सर्जन स्पेक्ट्रोस्कोपी (ओईएस) के लिए समर्पित पोर्ट।


इंटरलॉक्ड सुरक्षा पीएलसी:हार्डवेयर इंटरलॉक उच्च दबाव, शीतलन जल विफलता, या सुरक्षा उल्लंघनों के दौरान स्रोत सक्रियण को रोकते हैं।

 

वैक्यूम सिस्टम कॉन्फ़िगरेशन


रफ़िंग पंप:हाइड्रोकार्बन बैकस्ट्रीमिंग को खत्म करने के लिए ड्राई स्क्रॉल पंप (30 मीटर^3/घंटा)।


उच्च वैक्यूम पंप:क्रायोजेनिक जाल द्वारा समर्थित चुंबकीय रूप से उत्तोलन टर्बोमोलेक्यूलर पंप (एन2 के लिए 1200 एल/एस)।


गेज:संयुक्त पिरानी और कोल्ड कैथोड सेंसर वायुमंडल में 10^-7 Pa तक फैले हुए हैं।


बेक करना:150 डिग्री सेल्सियस तक पहुंचने वाले बाहरी इन्सुलेशन कंबल के साथ कार्ट्रिज हीटर जैकेट।

 

सामग्री और सब्सट्रेट संगतता


वाष्पीकरण सामग्री:
धातु:
औ, एजी, अल, टीआई, सीआर, पीटी, क्यू, नि


डाइलेक्ट्रिक्स और ऑक्साइड: SiO2, TiO2, Al2O3, ITO


अर्धचालक:सी, जीई


सब्सट्रेट प्रकार:एकल -क्रिस्टल सिलिकॉन वेफर्स, ग्लास, क्वार्ट्ज, पॉलीमाइड फिल्में, और धातु फ़ॉइल।

 

अनुप्रयोग


ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उपकरण:ओएलईडी और सौर कोशिकाओं के लिए पारदर्शी प्रवाहकीय इलेक्ट्रोड (आईटीओ) और बहु-परत परावर्तक।


माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक पैकेजिंग:वेफर स्तर की पैकेजिंग के लिए {{0}बम्प मेटलाइजेशन (यूबीएम) और बीज परतों के तहत।


उन्नत अनुसंधान एवं विकास:क्वांटम डिवाइस संरचनाएं, सुपरकंडक्टर पतली फिल्में और चुंबकीय सुरंग जंक्शन (एमटीजे)।

 

अनुकूलन विकल्प


चैम्बर स्केल:12-इंच सबस्ट्रेट्स या ग्लोवबॉक्स एकीकरण के लिए विस्तारित आयाम।


स्रोत सेटअप:कस्टम क्रूसिबल वॉल्यूम, आरएफ पूर्वाग्रह बिजली की आपूर्ति, और आयन {{0}सहायक जमाव (आईएडी) मॉड्यूल।


स्वचालन:टचस्क्रीन रेसिपी प्रबंधन या पूर्ण SECS/GEM फ़ैक्टरी स्वचालन अनुपालन।

 

गुणवत्ता नियंत्रण


रिसाव परीक्षण:प्रति चैम्बर हीलियम मास स्पेक्ट्रोमीटर परीक्षण (< 1 x 10^-10 Pa*m^3/s threshold).


आयामी जाँच:स्रोत का सीएमएम सत्यापन-से{{1}सब्सट्रेट दूरी और निकला हुआ किनारा सहनशीलता।


विद्युत परीक्षण:नमस्ते{{0}पॉट परीक्षण, ग्राउंडिंग निरंतरता जांच, और सभी उच्च {{1}वोल्टेज लाइनों पर ईएचएस ऑडिट।

 

स्थापना एवं समर्थन


फ़ैक्टरी स्वीकृति परीक्षण (एफएटी):हमारी सुविधा पर आधार दबाव, स्रोत कार्यक्षमता और स्वचालित साइक्लिंग के लिए शिपमेंट से पहले जांच की जाती है।


फ़ील्ड स्थापना:साइट पर यांत्रिक संरेखण, उपयोगिता हुकअप सत्यापन, और साइट स्वीकृति परीक्षण (एसएटी)।


दस्तावेज़ीकरण:पूर्ण डिलीवरी में इलेक्ट्रिकल स्कीमैटिक्स, पी एंड आईडी आरेख, पीएलसी बैकअप और मिल परीक्षण प्रमाणपत्र शामिल हैं।

 

अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न

 

प्रश्न: क्या सिस्टम एक बार में प्रतिक्रियाशील स्पटरिंग और थर्मल वाष्पीकरण के बीच स्विच कर सकता है?

उत्तर: हाँ. वायवीय शटर प्रत्येक स्रोत को अलग करते हैं, जिससे वैक्यूम रुकावट के बिना अनुक्रमिक निष्पादन की अनुमति मिलती है।

प्रश्न: सुविधा उपयोगिता आवश्यकताएँ क्या हैं?

ए: 3-चरण 380V/480V बिजली, ठंडा पानी (0.3 एमपीए पर 18 डिग्री सेल्सियस से 22 डिग्री सेल्सियस), संपीड़ित हवा (0.5 से 0.7 एमपीए), और एक रफिंग पंप निकास लाइन की आवश्यकता होती है।

प्रश्न: धात्विक स्रोतों के बीच क्रॉस-संदूषण को कैसे रोका जाता है?

उ: व्यक्तिगत स्रोत चिमनी, दिशात्मक बाफ़ल, और भौतिक शटर मल्टी{{1}स्रोत रन के दौरान भौतिक क्रॉस-वार्ता को कम करते हैं।

 

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