उत्पाद अवलोकन

 

औद्योगिक कैथोडिक आर्क वाष्पीकरण प्रणाली एक उत्पादन {{0}ग्रेड भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) प्लेटफॉर्म है जिसे घिसाव प्रतिरोधी, संक्षारण प्रतिरोधी, और कम घर्षण हार्ड कोटिंग्स जमा करने के लिए इंजीनियर किया गया है। कम वोल्टेज, उच्च धारा विद्युत आर्क का उपयोग करके, ठोस कैथोड लक्ष्यों को कैथोड स्थान पर तुरंत वाष्पीकृत और आयनित किया जाता है, जिससे अत्यधिक आयनित धातु प्लाज्मा उत्पन्न होता है।


आईएसओ 9001 गुणवत्ता प्रबंधन मानकों और सीई अनुपालन निर्देशों के तहत डिजाइन और निर्मित, यह प्रणाली उपकरण निर्माण, ऑटोमोटिव घटकों और औद्योगिक हार्डवेयर क्षेत्रों में उच्च थ्रूपुट कोटिंग संचालन के लिए कॉन्फ़िगर की गई है। मानक कॉन्फ़िगरेशन सुसंगत फिल्म स्टोइकोमेट्री और घने माइक्रोस्ट्रक्चर को बनाए रखने के लिए स्वतंत्र चुंबकीय {{4} फ़ील्ड स्टीयरिंग, प्रोग्रामयोग्य डीसी / स्पंदित पूर्वाग्रह बिजली की आपूर्ति और स्वचालित वैक्यूम नियंत्रण के साथ मल्टी {{3} }कैथोड लेआउट को एकीकृत करता है।

 
  • आर्क वाष्पीकरण पतली फिल्म प्रणाली
    औद्योगिक कैथोडिक आर्क वाष्पीकरण पतली फिल्म प्रणाली को घने, दृढ़ता से जुड़े धातु, मिश्र धातु और सिरेमिक यौगिक कोटिंग्स के उच्च - दर जमाव के लिए इंजीनियर किया गया है। ठोस कैथोड लक्ष्यों पर कम...
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  • आर्क वाष्पीकरण पीवीडी उपकरण
    औद्योगिक कैथोडिक आर्क वाष्पीकरण पीवीडी प्रणाली निर्वात वातावरण में ठोस कैथोड लक्ष्यों को वाष्पीकृत करने के लिए कम {0}वोल्टेज, उच्च {{1}वर्तमान विद्युत आर्क का उपयोग करती है। यह तंत्र 80% से अधिक...
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  • वैक्यूम आर्क थिन फिल्म सिस्टम
    औद्योगिक वैक्यूम आर्क थिन फिल्म सिस्टम घनी, अत्यधिक सुसंगत धातु, मिश्र धातु और सिरेमिक पतली फिल्मों को जमा करने के लिए कैथोडिक आर्क वाष्पीकरण का उपयोग करता है। एक उच्च {{1}वर्तमान, निम्न{2}वोल्टेज...
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  • कैथोडिक आर्क पतली फिल्म उपकरण
    भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) प्रणाली ठोस कैथोड लक्ष्यों को पूरी तरह से आयनित प्लाज्मा में वाष्पीकृत करने के लिए स्थानीयकृत निम्न वोल्टेज, उच्च धारा विद्युत आर्क का उपयोग करती है। उच्च आयनीकरण दर...
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  • आर्क वाष्पीकरण जमाव उपकरण
    औद्योगिक भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) प्लेटफ़ॉर्म को घने, घर्षण प्रतिरोधी और कार्यात्मक कठोर कोटिंग्स के उच्च {{0}दर संश्लेषण के लिए इंजीनियर किया गया है। ठोस लक्ष्य सतहों पर उच्च {{3} वर्तमान, निम्न...
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  • आर्क वाष्पीकरण पतली फिल्म उपकरण
    यह कैथोडिक आर्क वाष्पीकरण प्रणाली पूरी तरह से आयनित धातु प्लाज़्मा उत्पन्न करने के लिए कम {{0}वोल्टेज, उच्च - वर्तमान विद्युत आर्क के माध्यम से ठोस कैथोड लक्ष्यों को वाष्पीकृत करती है। मानक थर्मल...
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तकनीकी निर्देश

 

पैरामीटर

विशिष्टता रेंज/मानक विन्यास

चैम्बर आयाम

व्यास: 800 मिमी - 1800 मिमी (अनुकूलन योग्य ऊर्ध्वाधर/क्षैतिज लेआउट)

चैम्बर सामग्री

आंतरिक जल शीतलन चैनलों के साथ दोहरी दीवार वाली SUS304 स्टेनलेस स्टील

परम वैक्यूम दबाव

<= 5.0 x 10^-4 Pa (Achieved via roots blower and molecular/oil diffusion pump groups)

कैथोड विन्यास

विद्युत चुम्बकीय स्टीयरिंग के साथ 4 से 12 आयताकार/गोलाकार चाप स्रोत

आर्क विद्युत आपूर्ति

300ए - 500एक समायोज्य स्थिर धारा, तरंग<= 2%

सब्सट्रेट बायस पावर

0 से -1000V समायोज्य, स्पंदित पूर्वाग्रह आवृत्ति 10 kHz - 100 kHz

तापन प्रणाली

दीप्तिमान हीटर सरणी, अधिकतम तापमान 600 डिग्री +/- 5 डिग्री एकरूपता

वर्कपीस रोटेशन

चुंबकीय द्रव फ़ीडथ्रू द्वारा संचालित ग्रहीय या दोहरी -अक्षीय घूर्णन

नियंत्रण प्रणाली

पीएलसी + औद्योगिक पीसी, रेसिपी संचालित स्वचालित अनुक्रम नियंत्रण

उपयोगिता आवश्यकताएँ

ठंडा पानी: 0.25-0.35 एमपीए, 20-25 डिग्री; पावर: 380V/480V, 3-चरण, 50/60 हर्ट्ज

 

आर्क वाष्पीकरण प्रक्रिया

फिल्म की अखंडता और इंटरफ़ेस आसंजन की गारंटी के लिए जमाव चक्र सख्त प्रक्रियात्मक नियंत्रण के तहत संचालित होता है:

निकासी एवं गैस निष्कासन:

निर्वात कक्ष को आधार दबाव तक पंप किया जाता है। सतह की अस्थिरता और अवशिष्ट नमी को खत्म करने के लिए सब्सट्रेट को वैक्यूम के तहत गर्म किया जाता है।

01

प्लाज्मा नक़्क़ाशी (सफाई):

धातु आयन बमबारी (टाइटेनियम या क्रोमियम लक्ष्य स्रोतों का उपयोग करके) परमाणु स्तर पर सब्सट्रेट सतह को साफ करता है, देशी ऑक्साइड को हटाता है और इंटरफ़ेस को सक्रिय करता है।

02

प्रतिक्रियाशील जमाव:

धातु प्लाज्मा फ्लक्स (उदाहरण के लिए, Ti, Cr, AlTi) के साथ प्रतिक्रिया करने के लिए प्रतिक्रियाशील गैसों (N2, CH4, O2) को द्रव्यमान प्रवाह नियंत्रकों (MFCs) के माध्यम से कक्ष में इंजेक्ट किया जाता है, जिससे TiN, TiAlN, या CrN जैसी मिश्रित फिल्में बनती हैं।

03

कूलिंग एवं वेंटिंग:

चैंबर वेंटिंग और भाग पुनर्प्राप्ति से पहले सुरक्षात्मक अक्रिय गैस वातावरण के तहत जमाव के बाद शीतलन होता है।

04

 

Arc Evaporation Thin Film Equipment

 

फिल्म सामग्री एवं सबस्ट्रेट्स

समर्थित कैथोड लक्ष्य
टाइटेनियम (Ti) और टाइटेनियम एल्युमिनियम (TiAl):मानक TiN और उच्च {{0}ऑक्सीकरण {{1}प्रतिरोध TiAlN कोटिंग्स (900 डिग्री तक ऑक्सीकरण को सहन करने) के लिए आधार सामग्री।


क्रोमियम (Cr):सजावटी फिनिश और संक्षारण प्रतिरोधी CrN/CrC परतों के लिए उपयोग किया जाता है।


ज़िरकोनियम (Zr) और टाइटेनियम सिलिकॉन (TiSi):विशेष सजावटी और अत्यधिक टूट-फूट प्रतिरोधी नैनोकम्पोजिट फिल्मों के लिए उपयोग किया जाता है।


संगत सब्सट्रेट सामग्री
हाई-स्पीड स्टील (एचएसएस):ट्विस्ट ड्रिल, एंड मिल्स, हॉब्स और ब्रोच।


सीमेंटेड कार्बाइड (WC-Co):इंडेक्सेबल इंसर्ट, रीमर और फॉर्मिंग डाइज़।


इंजीनियरिंग स्टील्स और मिश्र धातुएँ:ऑटोमोटिव वाल्व घटक, गियर, स्टेनलेस स्टील सेनेटरी हार्डवेयर, और टाइटेनियम मेडिकल प्रत्यारोपण।

 

अनुप्रयोग एवं प्रदर्शन प्रभाव

धातु काटने के उपकरण:

कार्बाइड इन्सर्ट और एंड मिल्स पर TiAlN और AlCrN कोटिंग्स का जमाव, उपकरण के जीवनकाल को 200% से 300% तक बढ़ाना और शुष्क उच्च गति मशीनिंग को सक्षम करना।

गठन और मुद्रांकन मर जाता है:

गहरी ड्राइंग के दौरान चिपकने वाले घिसाव, पित्त और वर्कपीस के चिपकने को कम करने के लिए घने, कम घर्षण वाले कोटिंग्स का उपयोग, डाउनटाइम को 40% तक कम करता है।

ऑटोमोटिव पावरट्रेन:

सीमा घर्षण गुणांक को <0.15 तक कम करने और घर्षण को रोकने के लिए पिस्टन रिंग, ईंधन इंजेक्शन पिन और टेपेट का उपचार।

औद्योगिक हार्डवेयर और स्वच्छता नल:

कठोर सजावटी पीवीडी परतें (टीआईएन सोना, गुलाबी सोना, काला जिरकोनियम) न्यूनतम 500 घंटे के तटस्थ नमक स्प्रे परीक्षण (एएसटीएम बी117) से गुजर रही हैं।

 

अनुकूलन एवं प्रक्रिया विन्यास

उपकरण लेआउट का पैमाना उत्पादन की मात्रा, भाग की ज्यामिति और फ़ैक्टरी पदचिह्न के अनुसार होता है:

चैम्बर ज्यामिति:

भारी उपकरणों के लिए लंबवत लोडिंग संरचनाएं; उच्च क्षमता वाले फिक्स्चर लोडिंग के लिए क्षैतिज बैच कॉन्फ़िगरेशन।

स्रोत एकीकरण:

चिकनी, छोटी बूंद मुक्त मल्टीलेयर आर्किटेक्चर जमा करने के लिए असंतुलित मैग्नेट्रोन स्पटरिंग (आरएमएस) कैथोड के साथ कैथोडिक आर्क स्रोतों को संयोजित करने वाली हाइब्रिड कॉन्फ़िगरेशन।

निस्पंदन सिस्टम:

वैकल्पिक चुंबकीय मैक्रोपार्टिकल फ़िल्टर (स्टीयर आर्क फ़िल्टर) ऑप्टिकल या अल्ट्रा {{1} चिकनी परिशुद्धता कार्यात्मक कोटिंग्स के लिए मैक्रो बूंदों को खत्म करने के लिए कैथोड चैनलों पर स्थापित किए गए हैं।

स्वचालन इंटरफ़ेस:

रोबोटिक लोडिंग आर्म्स और स्वचालित गाइडेड वाहन (एजीवी) बैच स्टेजिंग के लिए एकीकरण तैयार।

 

 

विनिर्माण एवं गुणवत्ता नियंत्रण

संरचनात्मक अखंडता:चैम्बर निकाय संवेदनशीलता सीमा पर हीलियम मास स्पेक्ट्रोमीटर रिसाव परीक्षण से गुजरते हैं<= 1 x 10^-9 Pa*m3/s prior to assembly.


विद्युत सुरक्षा एवं अनुपालन:पूरी तरह से सीई और आईईसी विद्युत सुरक्षा दिशानिर्देशों के अनुसार निर्मित, जिसमें पूर्ण इन्सुलेशन परीक्षण और आपातकालीन सुरक्षा इंटरलॉक शामिल हैं।


कार्यात्मक रन-बंद (एफएटी):Each system undergoes a 72-hour continuous dry-run test and a full-process thermal deposition test in our factory. Coating thickness uniformity (+/- 5%) and adhesion (Scratch Tester critical load Lc >= 40 एन / रॉकवेल इंडेंटेशन एचएफ1-एचएफ2) को शिपमेंट से पहले मानक परीक्षण कूपन पर सत्यापित किया जाता है।

Cathodic Arc Thin Film Equipment

 

स्थापना एवं तकनीकी सहायता
 

साइट तैयारी पैकेज:

शीतल जल प्रवाह दर, निकास वेंटिलेशन, फर्श भार क्षमता और विद्युत ड्रॉप विनिर्देशों का विवरण देने वाले व्यापक उपयोगिता लेआउट चित्र अनुबंध के 4 सप्ताह बाद प्रदान किए गए।

-साइट कमीशनिंग पर:

फैक्टरी प्रमाणित प्रक्रिया इंजीनियर ग्राहक सुविधा पर यांत्रिक संरेखण, वैक्यूम रिसाव का पता लगाने, विद्युत एकीकरण और प्रारंभिक बेसलाइन रेसिपी सेटअप को संभालते हैं।

प्रक्रिया पकाने की विधि स्थानांतरण:

डिलीवरी में मानक बेसलाइन रेसिपी (TiN, TiAlN, CrN) और आंतरिक रखरखाव और इंजीनियरिंग टीमों के लिए परिचालन प्रशिक्षण शामिल है।

रिमोट डायग्नोस्टिक सपोर्ट:

रिमोट पैरामीटर समस्या निवारण और पीएलसी लॉजिक डायग्नोस्टिक्स के लिए सुरक्षित औद्योगिक राउटर गेटवे से सुसज्जित सिस्टम।

 

 

अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न

 

 

प्रश्न: सिस्टम चाप वाष्पीकरण में निहित मैक्रोपार्टिकल (बूंद) पीढ़ी को कैसे नियंत्रित करता है?

ए: उपकरण कैथोड आर्क स्पॉट को लक्ष्य सतह पर तेजी से स्थानांतरित करने के लिए समायोज्य चुंबकीय क्षेत्र स्टीयरिंग कॉइल का उपयोग करता है, जिससे निवास समय और बूंद निष्कासन कम हो जाता है। उन अनुप्रयोगों के लिए जिनमें अल्ट्रा-स्मूद फ़िनिश की आवश्यकता होती है, वैकल्पिक फ़िल्टर किए गए आर्क मॉड्यूल सब्सट्रेट तक पहुंचने से पहले चुंबकीय रूप से धातु प्लाज्मा को मैक्रोपार्टिकल्स से दूर विक्षेपित करते हैं।

प्रश्न: मानक कैथोड विन्यास के लिए विशिष्ट लक्ष्य उपयोग दर क्या है?

ए: मानक गोलाकार और आयताकार कैथोड चुंबकीय क्षेत्र प्रोफ़ाइल और लक्ष्य मोटाई के आधार पर 40% से 55% की लक्ष्य सामग्री उपयोग दर प्राप्त करते हैं। रखरखाव डाउनटाइम को कम करने के लिए लक्ष्य प्रतिस्थापन को त्वरित क्लैंप तंत्र के साथ यांत्रिक रूप से सुरक्षित किया जाता है।

प्रश्न: क्या इस उपकरण को मौजूदा स्वचालित उत्पादन लाइन में एकीकृत किया जा सकता है?

उत्तर: हाँ. पीएलसी नियंत्रण वास्तुकला स्वचालित पूर्व सफाई लाइनों और रोबोटिक लोडिंग कोशिकाओं के साथ एकीकरण के लिए SECS/GEM संचार प्रोटोकॉल और मानक डिजिटल I/O हैंडशेकिंग का समर्थन करता है।

प्रश्न: कस्टम चैम्बर कॉन्फ़िगरेशन के लिए मानक लीड समय क्या है?

ए: अनुकूलित पंपिंग समूह विनिर्देशों और बिजली आपूर्ति व्यवस्था के आधार पर, मानक ऊर्ध्वाधर बैच सिस्टम को अनुमोदन प्राप्त करने से लेकर फैक्ट्री स्वीकृति परीक्षण (एफएटी) तक 16 से 22 सप्ताह की आवश्यकता होती है।

हम चीन में अग्रणी आर्क वाष्पीकरण पतली फिल्म उपकरण निर्माताओं और आपूर्तिकर्ताओं में से एक के रूप में जाने जाते हैं। यदि आप चीन में बने अनुकूलित आर्क वाष्पीकरण पतली फिल्म उपकरण खरीदने जा रहे हैं, तो हमारे कारखाने से मूल्य सूची प्राप्त करने के लिए आपका स्वागत है। मूल्य परामर्श के लिए, हमसे संपर्क करें।

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