पीवीडी समग्र जमाव उपकरण

औद्योगिक पीवीडी कम्पोजिट डिपोजिशन उपकरण को मल्टी {{0} कंपोनेंट, मल्टी {{1} लेयर, और नैनो {{2} कंपोजिट थिन - फिल्म निर्माण के लिए इंजीनियर किया गया है। फिल्म संरचना, इंटरफ़ेस तीक्ष्णता और अवशिष्ट तनाव को नियंत्रित करने के लिए सिस्टम एक एकल वैक्यूम वातावरण के भीतर थर्मल वाष्पीकरण, ई -बीम वाष्पीकरण, और मैग्नेट्रोन स्पटरिंग स्रोतों को एकीकृत करता है। निरंतर अनुसंधान एवं विकास और उत्पादन के लिए निर्मित, आर्किटेक्चर में कम आधार दबाव, मॉड्यूलर स्रोत कॉन्फ़िगरेशन और स्वच्छ रखरखाव पहुंच शामिल है।

मॉड्यूलर स्रोत एकीकरण:चैंबर पोर्ट क्रॉस-{0}}संदूषण के बिना वाष्पीकरण और स्पटरिंग स्रोतों के एक साथ या अनुक्रमिक संचालन को समायोजित करते हैं।

गतिशील सब्सट्रेट हेरफेर:बहु-अक्ष ग्रहीय या स्विंग रोटेशन ड्राइव तंत्र जटिल 3डी सबस्ट्रेट्स और गहरी खाइयों पर अनुरूप कोटिंग सुनिश्चित करते हैं।

-सीटू मॉनिटरिंग पोर्ट में:क्वार्ट्ज क्रिस्टल माइक्रोबैलेंस (क्यूसीएम), ऑप्टिकल उत्सर्जन स्पेक्ट्रोस्कोपी (ओईएस), और ब्रॉडबैंड ऑप्टिकल मॉनिटरिंग (बीओएम) के लिए पूर्व-संरेखित फ्लैंज।

उच्च-शुद्धता वैक्यूम अखंडता:धातु -सीलबंद कॉनफ्लैट (सीएफ) फ्लैंज, वायवीय गेट वाल्व, और हीलियम मास स्पेक्ट्रोमीटर रिसाव परीक्षण 1.0 x 10^-10 Pa*m3/s तक।

स्वचालित इंटरलॉक सुरक्षा:वास्तविक समय सेंसर फीडबैक ठंडा पानी की विफलता, संपीड़ित हवा की हानि और अधिक तापमान विसंगतियों से बचाता है।

रफ़िंग एवं रूट्स पंप्स:रूट ब्लोअर के साथ संयुक्त ऑयल फ्री ड्राई स्क्रू पंप हाइड्रोकार्बन को प्रक्रिया कक्ष में बैकस्ट्रीमिंग से रोकते हैं।

उच्च-वैक्यूम पंप:लक्ष्य गैस लोड आवश्यकताओं के अनुसार चयनित चुंबकीय रूप से उत्तोलित टर्बोमोलेक्यूलर पंप या बंद {{0}लूप हीलियम क्रायोजेनिक पंप।

दबाव विनियमन:कैपेसिटेंस मैनोमीटर के साथ एकीकृत थ्रॉटल वाल्व नियंत्रक प्रतिक्रियाशील रन के दौरान स्थिर प्रक्रिया दबाव (0.1 Pa से 10 Pa) बनाए रखते हैं।

ऑप्टिकल हस्तक्षेप फ़िल्टर:लेज़रों और सेंसरों के लिए मल्टी{{0}लेयर एंटी{{1}रिफ्लेक्टिव (एआर) कोटिंग्स, बैंडपास फिल्टर और हाई{2}}रिफ्लेक्टर दर्पण।

प्रतिरोधी कठोर कोटिंग्स पहनें: सटीक काटने वाले उपकरणों और ऑटोमोटिव वाल्वट्रेन पर नैनोकम्पोजिट नाइट्राइड कोटिंग्स (TiAlN/Si3N4)।

माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक पतली फिल्में:सेमीकंडक्टर पैकेजिंग के लिए प्रवाहकीय बाधा परतें, बीज परतें और संपर्क धातुकरण स्टैक।

कार्यात्मक ऊर्जा फिल्में:फोटोवोल्टिक और सेंसर उपकरणों के लिए पारदर्शी प्रवाहकीय ऑक्साइड (टीसीओ) और अवशोषक परतें।

चैम्बर आयाम:आर एंड डी पैमाने (400 मिमी घन) से उत्पादन पैमाने (व्यास. 1200 मिमी बेलनाकार) तक स्केल की गई मात्रा।

स्रोत पोर्ट लेआउट:तृतीय-पक्ष आयन स्रोतों, प्लाज्मा-सहायता जमाव (पीएडी), या आरएफ पूर्वाग्रह जनरेटर को एकीकृत करने के लिए कस्टम निकला हुआ किनारा स्थिति।

लोड करें-लॉक एकीकरण:ऑक्सीकरण को रोकने के लिए मैन्युअल लोड {{0} लॉक, सिंगल {{1} वेफर लोड {{2} लॉक, या मल्टी {3} चैम्बर क्लस्टर टूल कॉन्फ़िगरेशन।

वैश्विक विद्युत एवं सुरक्षा अनुपालन:यूएल 508ए/एनएफपीए 79 (उत्तरी अमेरिका), सीई (यूरोप), और एसईएमआई एस2/एस8 ईएचएस दिशानिर्देशों के अनुसार निर्मित नियंत्रण कैबिनेट।

वैक्यूम परीक्षण:वेल्डेड चैंबर सतह परिष्करण से पहले हीलियम मास स्पेक्ट्रोमीटर रिसाव का पता लगाने से गुजरते हैं।

आयामी निरीक्षण:स्रोत माउंटिंग विमानों और सब्सट्रेट सहनशीलता का समन्वय मापने वाली मशीन (सीएमएम) सत्यापन।

फ़ैक्टरी स्वीकृति परीक्षण (एफएटी):72-घंटे लगातार शुष्क-रन टेस्ट रिकॉर्डिंग बेस प्रेशर क्षय, पंप-डाउन कर्व्स, और पीएलसी रिस्पॉन्स लॉग।

प्री-इंस्टॉलेशन इंजीनियरिंग:सुविधा आवश्यकता मैनुअल (उपयोगिताएँ, ठंडा जल प्रवाह/दबाव, निकास वेंटिलेशन, क्लीनरूम फर्श लोडिंग) का प्रावधान।

-साइट कमीशनिंग पर:फील्ड सर्विस इंजीनियर हेराफेरी, वैक्यूम लाइन हुकअप, इलेक्ट्रिकल टाई इन और प्रारंभिक पंप डाउन की देखरेख करते हैं।

प्रक्रिया ट्यूनिंग सहायता:फिल्म की एकरूपता और जमाव दर को सत्यापित करने के लिए ग्राहक इंजीनियरिंग टीमों के साथ सहयोगात्मक परीक्षण चलता है।

जीवनचक्र समर्थन:वास्तविक समय पीएलसी समस्या निवारण के लिए रिमोट डायग्नोस्टिक्स मॉड्यूल एकीकरण, स्थानीयकृत स्पेयर पार्ट्स इन्वेंट्री द्वारा समर्थित।