उत्पाद अवलोकन

 

पीवीडी कम्पोजिट थिन फिल्म इक्विपमेंट एक औद्योगिक वैक्यूम डिपोजिशन प्लेटफॉर्म है जिसे मल्टी-{0}}लेयर, मिश्र धातु और नैनोकम्पोजिट पतली फिल्मों को जमा करने के लिए इंजीनियर किया गया है। एक एकल निर्वात कक्ष के भीतर मैग्नेट्रोन स्पटरिंग और कैथोडिक आर्क स्रोतों को एकीकृत करके, सिस्टम फिल्म माइक्रोस्ट्रक्चर, अवशिष्ट तनाव और इंटरफेशियल आसंजन पर सटीक नियंत्रण सक्षम करता है। निरंतर उत्पादन और उन्नत अनुसंधान एवं विकास के लिए निर्मित, प्लेटफ़ॉर्म स्केलेबल चैम्बर ज्यामिति के साथ धातु, सिरेमिक और पॉलिमर सब्सट्रेट को समायोजित करता है।

 
  • पीवीडी कम्पोजिट वैक्यूम डिपोजिशन उपकरण
    यह औद्योगिक पीवीडी मिश्रित वैक्यूम जमाव प्लेटफॉर्म एक समान, बहु-परत धातु, मिश्र धातु, या ढांकता हुआ पतली फिल्मों को जमा करने के लिए एकल कक्ष वातावरण में कई जमाव तकनीकों को एकीकृत करता है। मानक...
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  • पीवीडी हाइब्रिड पतली फिल्म जमाव प्रणाली
    पीवीडी हाइब्रिड थिन फिल्म डिपोजिशन सिस्टम एक एकल वैक्यूम आर्किटेक्चर के भीतर थर्मल वाष्पीकरण, इलेक्ट्रॉन बीम (ई -बीम) वाष्पीकरण, और आरएफ/डीसी मैग्नेट्रोन स्पटरिंग को एकीकृत करता है। यह प्लेटफ़ॉर्म...
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  • पीवीडी मल्टी-प्रोसेस थिन फिल्म उपकरण
    पीवीडी मल्टी-प्रोसेस थिन फिल्म इक्विपमेंट एक एकीकृत वैक्यूम डिपोजिशन प्लेटफॉर्म है जिसे एक एकीकृत वैक्यूम आर्किटेक्चर के भीतर आरएफ/डीसी मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग, थर्मल वाष्पीकरण और इलेक्ट्रॉन बीम...
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  • पीवीडी समग्र जमाव उपकरण
    औद्योगिक पीवीडी कम्पोजिट डिपोजिशन उपकरण को मल्टी {{0} कंपोनेंट, मल्टी {{1} लेयर, और नैनो {{2} कंपोजिट थिन - फिल्म निर्माण के लिए इंजीनियर किया गया है। फिल्म संरचना, इंटरफ़ेस तीक्ष्णता और अवशिष्ट...
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  • पीवीडी कम्पोजिट थिन फिल्म सिस्टम
    मैग्नेट्रोन स्पटरिंग (RF/DC/HiPIMS) और कैथोडिक आर्क वाष्पीकरण को एकीकृत करने वाला औद्योगिक - ग्रेड वैक्यूम कोटिंग सिस्टम। उत्पादन पैमाने पर निरंतर, बहु-परत, मिश्र धातु और नैनो-मिश्रित पतली फिल्म...
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  • पीवीडी कम्पोजिट पतली फिल्म उपकरण
    पीवीडी कम्पोजिट थिन फिल्म इक्विपमेंट एक औद्योगिक वैक्यूम प्लेटफॉर्म है जिसे बहु-परत, मिश्र धातु और वर्गीकृत पतली फिल्मों को संश्लेषित करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। एक मॉड्यूलर 304एल/316एल...
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तकनीकी निर्देश

 

पैरामीटर

विशिष्टता रेंज

परम वैक्यूम दबाव

<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite)

कार्य का दबाव

0.1 पा - 5.0 पा

सब्सट्रेट तापमान

800 डिग्री तक परिवेश (बंद - लूप पीआईडी ​​नियंत्रित)

निक्षेपण स्रोत

विन्यास योग्य: डीसी/आरएफ मैग्नेट्रोन स्पटरिंग, स्पंदित डीसी, फ़िल्टर्ड कैथोडिक आर्क

मोटाई एकरूपता

< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier

चैम्बर सामग्री

304एल/316एल स्टेनलेस स्टील, मैकेनिकल ग्राउंड और इलेक्ट्रो-पॉलिश (रा<= 0.4 um)

विद्युत आपूर्ति एकीकरण

एमएफ जनरेटर (10-100 किलोहर्ट्ज), आरएफ जनरेटर (13.56 मेगाहर्ट्ज), स्पंदित डीसी पूर्वाग्रह

नियंत्रण प्रणाली

स्वचालित रेसिपी निष्पादन, इंटरलॉक मॉनिटरिंग और बैच डेटा लॉगिंग के साथ औद्योगिक पीएलसी + आईपीसी

 

समग्र निक्षेपण प्रक्रिया

सिस्टम मैग्नेट्रोन स्पटरिंग और कैथोडिक आर्क प्रौद्योगिकियों के संयोजन से एक हाइब्रिड भौतिक वाष्प जमाव वास्तुकला का उपयोग करता है।

बहु-स्रोत सिनर्जी:

एकाधिक कैथोड का एक साथ या अनुक्रमिक संचालन फिल्म स्टैक में अचानक या श्रेणीबद्ध संरचना परिवर्तन की अनुमति देता है।

 

आयन नक़्क़ाशी पूर्व-सफाई:

आरएफ या डीसी प्लाज्मा सफाई चरण कोटिंग को अधिकतम करने के लिए सब्सट्रेट आसंजन को अधिकतम करने के लिए जमाव से पहले देशी ऑक्साइड और सतह के दूषित पदार्थों को हटा देते हैं।

प्रतिक्रियाशील जमाव नियंत्रण:

बंद - लूप ऑप्टिकल उत्सर्जन स्पेक्ट्रोस्कोपी (ओईएस) स्थिर यौगिक स्टोइकोमेट्री को बनाए रखने और लक्ष्य विषाक्तता को रोकने के लिए प्रतिक्रियाशील गैस इंजेक्शन (ओ 2, एन 2, सी 2 एच 2) को नियंत्रित करता है।

सब्सट्रेट बायसिंग:

सिंक्रोनाइज्ड स्पंदित बायस बिजली आपूर्ति बढ़ती फिल्म पर उच्च ऊर्जा आयनों के साथ बमबारी करती है, सूक्ष्म संरचना को सघन करती है और अवशिष्ट संपीड़न तनाव को संतुलित करती है।

 

फ़िल्म सामग्री

उपकरण अनुरूप कार्यात्मक आवश्यकताओं के लिए लक्ष्य सामग्रियों के व्यापक स्पेक्ट्रम का समर्थन करता है:

PVD Hybrid Thin Film Deposition System

संक्रमण धातु नाइट्राइड और कार्बाइड:

घिसाव और संक्षारण प्रतिरोध के लिए TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN।

 

 
PVD Composite Deposition Equipment

नैनोकम्पोजिट और मल्टीलेयर सिस्टम:

अत्यधिक कठोरता और उच्च तापमान तापीय स्थिरता के लिए TiSiN, AlTiSiN, धातु/सिरेमिक नैनोलेयर्स।

 
PVD Composite Thin Film System

पारदर्शी प्रवाहकीय ऑक्साइड (टीसीओ):

ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक और फोटोवोल्टिक अनुप्रयोगों के लिए ITO, AZO, IGZO।

 
PVD Composite Thin Film Equipment

शुद्ध धातु एवं मिश्र धातु:

विद्युत संपर्क और प्रसार अवरोधक परतों के लिए Ti, Cr, Al, Cu, स्टेनलेस स्टील, NiCr।

 
अनुप्रयोग
 
 
 

परिशुद्धता काटने के उपकरण:

उच्च तापीय भार के तहत परिचालन जीवन काल को बढ़ाने के लिए कार्बाइड इन्सर्ट, ड्रिल और एंड मिलों पर सुपर {0} कठोर, कम {{1} घर्षण कोटिंग्स (उदाहरण के लिए, TiAlN) का जमाव।

 
 

ऑटोमोटिव घटक:

पिस्टन के छल्ले, ईंधन इंजेक्शन भागों और गियर असेंबलियों पर घर्षण {{0}कमी और टूट-फूट {{1}प्रतिरोधी फिल्में।

 
 

ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स और डिस्प्ले:

स्पर्श पैनलों और सौर सेल सबस्ट्रेट्स के लिए कम {{0}प्रतिरोधकता, उच्च {{1}पारेषण प्रवाहकीय ऑक्साइड परतें।

 
 

चिकित्सा उपकरण:

सर्जिकल उपकरणों और आर्थोपेडिक प्रत्यारोपणों पर बायोकम्पैटिबल और घिसाव प्रतिरोधी कोटिंग।

 

 

अनुकूलन एवं सिस्टम कॉन्फ़िगरेशन

इंजीनियरिंग कॉन्फ़िगरेशन को विशिष्ट उत्पादन सुविधा बाधाओं और प्रक्रिया व्यंजनों के लिए अनुकूलित किया जाता है:

चैंबर का आकार:

आर एंड डी बैच सिस्टम (500 मिमी व्यास) से लेकर बड़े पैमाने पर उत्पादन भार {{2}लॉक सिस्टम (1000 मिमी+) तक बेलनाकार या आयताकार कक्ष विकल्प।

01

पम्पिंग सुइट चयन:

आवश्यक पंप डाउन टाइम और गैस लोड प्रोफाइल के आधार पर रूट ब्लोअर, टर्बोमोलेक्यूलर पंप और क्रायोजेनिक पंप का मिलान।

02

सब्सट्रेट फिक्स्चर:

जटिल 3डी ज्यामिति या निरंतर वेब के लिए डिज़ाइन किए गए अनुकूलित ग्रहीय घूर्णन चरण, 3{1}अक्ष उपग्रह घूर्णन, या रोल{2}}टू-रोल मॉड्यूल।

03

स्वचालन स्तर:

रोबोटिक सब्सट्रेट हैंडलिंग के साथ अर्ध-स्वचालित मैनुअल लोड कॉन्फ़िगरेशन या पूरी तरह से स्वचालित वैक्यूम ट्रांसफर सिस्टम।

04

 

विनिर्माण एवं गुणवत्ता नियंत्रण
 

रिसाव का पता लगाना:

प्रत्येक निर्वात कक्ष <1 x 10^-10 Pa * m^3/s की सीमा तक हीलियम मास स्पेक्ट्रोमीटर रिसाव परीक्षण से गुजरता है।

वेल्ड निरीक्षण:

वैक्यूम साइड वेल्ड को टीआईजी वेल्ड, ग्राउंड और पॉलिश किया जाता है, इसके बाद अनुरोध पर एक्स रे या डाई पेनेट्रेंट निरीक्षण किया जाता है।

विद्युत एवं सुरक्षा अनुपालन:

एनएफपीए 79 या सीई/आईईसी मानकों के अनुसार निर्मित नियंत्रण पैनल, जिसमें जल प्रवाह, गैस दबाव और विद्युत सुरक्षा के लिए हार्डवेयर इंटरलॉक शामिल हैं।

फ़ैक्टरी स्वीकृति परीक्षण (एफएटी):

शिपमेंट से पहले परीक्षण में 72 घंटे तक लगातार ड्राई रन साइकिलिंग, वैक्यूम प्रदर्शन सत्यापन और ग्राहक-निर्दिष्ट व्यंजनों का उपयोग करके कोटिंग जमाव का परीक्षण शामिल है।

 

 

स्थापना एवं तकनीकी सहायता

साइट तैयारी दिशानिर्देश:व्यापक सुविधा आवश्यकता दस्तावेज़ में उपयोगिता इंटरफेस (ठंडा जल प्रवाह/दबाव, विद्युत भार, संपीड़ित हवा, निकास) का विवरण दिया गया है।


-साइट कमीशनिंग पर:फ़ील्ड सेवा इंजीनियर यांत्रिक संरेखण, वैक्यूम रिसाव जांच, विद्युत टाई इन्स और प्रारंभिक अंशांकन निष्पादित करते हैं।


प्रक्रिया पकाने की विधि ट्यूनिंग:लक्ष्य फिल्म की मोटाई, तनाव और कठोरता मापदंडों को लॉक करने के लिए क्लाइंट मेटलर्जिस्ट और प्रोसेस इंजीनियरों के साथ साइट पर सहयोग।


जीवनचक्र समर्थन:रिमोट डायग्नोस्टिक्स इंटरफ़ेस, स्थानीयकृत स्पेयर पार्ट्स इन्वेंट्री, और अनुसूचित निवारक रखरखाव कार्यक्रम।

PVD Composite Vacuum Deposition Equipment

 

 

अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न

 

 

प्रश्न: आधार दबाव तक पहुंचने के लिए सामान्य पंप डाउन टाइम क्या है?

ए: मानक उच्च वैक्यूम कॉन्फ़िगरेशन (जड़ों/रोटरी वेन बैकिंग पंपों के साथ जोड़े गए टर्बोमोलेक्यूलर या क्रायोजेनिक पंप) का उपयोग करते हुए, चैंबर 25 से 40 मिनट के भीतर वायुमंडल से <5.0 x 10^-4 Pa तक खाली हो जाता है, जो चैंबर की मात्रा और नमी आउटगैसिंग लोड पर निर्भर करता है।

प्रश्न: क्या सिस्टम स्वचालित रूप से प्रतिक्रियाशील और गैर-प्रतिक्रियाशील स्पटरिंग मोड के बीच स्विच कर सकता है?

उत्तर: हाँ. पीएलसी नियंत्रण सॉफ्टवेयर बड़े पैमाने पर प्रवाह नियंत्रकों (एमएफसी) और बिजली आपूर्ति आउटपुट को गतिशील रूप से प्रबंधित करता है, जिससे एकल प्रक्रिया चक्र के भीतर धातु जमाव और प्रतिक्रियाशील यौगिक गठन के बीच स्वचालित संक्रमण की अनुमति मिलती है।

प्रश्न: मानक ग्रहीय घूर्णन चरण किस सब्सट्रेट ज्यामिति को समायोजित कर सकता है?

ए: मानक 3-अक्ष ग्रहीय स्थिरता काटने के उपकरण और ऑटोमोटिव वाल्व जैसे जटिल 3डी घटकों को संभालती है। कस्टम जिग्स को 400 मिमी x 400 मिमी या बेलनाकार रोल तक के फ्लैट सब्सट्रेट के लिए इंजीनियर किया जा सकता है।

प्रश्न: आप बड़े बैचों में फिल्म की मोटाई एकरूपता कैसे सुनिश्चित करते हैं?

उत्तर: एकरूपता अनुकूलित कैथोड से {{1}सब्सट्रेट दूरी, स्थानीयकृत चुंबकीय क्षेत्र प्रोफ़ाइल सिमुलेशन और बहु-अक्ष ग्रहीय घूर्णन के माध्यम से प्राप्त की जाती है। एफएटी के दौरान गवाह नमूना परीक्षण के माध्यम से वास्तविक एकरूपता की पुष्टि की जाती है।

प्रश्न: एक मानक औद्योगिक इकाई के लिए उपयोगिता आवश्यकताएँ क्या हैं?

उत्तर: आमतौर पर 3-चरण 380V/480V (50/60Hz), ठंडा ठंडा पानी की आपूर्ति (3 से 4 बार पर लगभग 15 से 20 डिग्री), वायवीय वाल्व के लिए संपीड़ित हवा (6 बार), और वेंटिंग के लिए साफ सूखी हवा या नाइट्रोजन की आवश्यकता होती है। सटीक भार बिजली आपूर्ति विन्यास के अनुसार भिन्न होता है।

हम चीन में अग्रणी pvd कंपोजिट थिन फिल्म उपकरण निर्माताओं और आपूर्तिकर्ताओं में से एक के रूप में जाने जाते हैं। यदि आप चीन में बने अनुकूलित पीवीडी मिश्रित पतली फिल्म उपकरण खरीदने जा रहे हैं, तो हमारे कारखाने से मूल्य सूची प्राप्त करने के लिए आपका स्वागत है। मूल्य परामर्श के लिए, हमसे संपर्क करें।

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