उत्पाद अवलोकन

 

यह इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण पतली फिल्म उपकरण उच्च परिशुद्धता भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) के लिए इंजीनियर किया गया है। स्रोत सामग्रियों पर बमबारी करने के लिए एक केंद्रित उच्च {{2} ऊर्जा इलेक्ट्रॉन बीम का उपयोग करके, सिस्टम उच्च {{3} पिघलने {{4} बिंदु धातुओं, ऑक्साइड और ढांकता हुआ सामग्री के लिए उच्च वाष्पीकरण दर प्राप्त करता है।


एक मॉड्यूलर वैक्यूम आर्किटेक्चर पर निर्मित, सिस्टम मल्टी-पॉकेट इलेक्ट्रॉन गन, अनुकूलन योग्य सब्सट्रेट फिक्स्चर और उन्नत इन-सिटू मॉनिटरिंग को समायोजित करता है। यह अनुसंधान एवं विकास प्रयोगशालाओं और उच्च थ्रूपुट उत्पादन लाइनों की सेवा प्रदान करता है, जिनके लिए फिल्म स्टोइकोमेट्री, आसंजन और ऑप्टिकल प्रदर्शन पर सख्त नियंत्रण की आवश्यकता होती है।

 
 
तकनीकी निर्देश

 

पैरामीटर

विशिष्टता रेंज

नोट्स/मानक विन्यास

अंतिम आधार दबाव

< 5.0 × 10^-6 Pa

क्रायोजेनिक या टर्बो-आण्विक पंपिंग समूहों के माध्यम से प्राप्त किया गया

चैम्बर आयाम

अनुकूलित (500 मिमी से 1200 मिमी आंतरिक व्यास)

304एल / 316एल स्टेनलेस स्टील, इलेक्ट्रो-पॉलिश

ई-गन पावर रेटिंग

6 किलोवाट से 15 किलोवाट (मल्टी-पॉकेट स्वीप जेनरेटर)

प्रोग्रामयोग्य बीम विक्षेपण और बहु-क्रूसिबल अनुक्रमण

जमाव दर

0.1 एनएम/सेकेंड से 10 एनएम/सेकेंड

क्वार्ट्ज क्रिस्टल मॉनिटर के माध्यम से वास्तविक {{0}समय बंद{{1}लूप नियंत्रण

फिल्म की मोटाई एकरूपता

< ±1% to ±2% across standard substrates

चर गति घूर्णन के साथ ग्रहीय या गुंबद सब्सट्रेट स्थिरता

सब्सट्रेट तापमान

800 डिग्री तक परिवेश

पीआईडी ​​थर्मल फीडबैक के साथ एकीकृत रेडियंट हीटिंग

 

प्रमुख उपकरण विशेषताएँ

उच्च-स्थिरता इलेक्ट्रॉन गन:

स्रोत सामग्री के स्थानीय अति ताप को रोकने और प्रतिक्रियाशील वाष्पीकरण के दौरान थूकने को खत्म करने के लिए चुंबकीय विक्षेपण और बहु ​​- बिंदु फोकसिंग की सुविधा है।

मॉड्यूलर क्रूसिबल डिज़ाइन:

4 से 6-पॉकेट इंडेक्सेबल चूल्हों से सुसज्जित, जो वैक्यूम को तोड़े बिना बहु-परत जमाव की अनुमति देता है।

 

उन्नत वैक्यूम इंटरलॉक:

पीएलसी {{0}नियंत्रित वायवीय वाल्व, स्वचालित रफिंग/हाई-वैक्यूम अनुक्रमण, और इंटरलॉक ठंडा पानी की विफलता और बिजली विसंगतियों से बचाते हैं।

निम्न -संदूषण कक्ष:

आंतरिक परिरक्षण त्वरित कण कटौती और रखरखाव बदलाव के लिए हटाने योग्य लाइनर्स के साथ इलेक्ट्रो - पॉलिश स्टेनलेस स्टील का उपयोग करता है।

 

 

फिल्म सामग्री एवं सबस्ट्रेट्स

 

संगत वाष्पीकरण सामग्री

धातु: औ, एजी, अल, टीआई, सीआर, नी, पीटी, क्यू, मो, डब्ल्यू
डाइलेक्ट्रिक्स और ऑक्साइड: SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, HfO2, ITO

 

सब्सट्रेट प्रकार

सिलिकॉन वेफर्स (2 इंच से 12 इंच)
ऑप्टिकल ग्लास, फ्यूज्ड सिलिका और क्वार्ट्ज सब्सट्रेट
लचीली पॉलिमर फ़िल्में (पॉलीमाइड, पीईटी रोल के माध्यम से - से {{1} रोल मॉड्यूल)
सिरेमिक सबस्ट्रेट्स (Al2O3, AlN)

 
 
 
अनुप्रयोग
High Vacuum Electron Beam Evaporation Equipment

ऑप्टिकल कोटिंग्स:

लेज़र और फोटोनिक्स प्रणालियों के लिए एंटी{{0}रिफ्लेक्टिव (एआर) कोटिंग्स, नैरो{1}}बैंड फिल्टर और उच्च-रिफ्लेक्टिविटी दर्पण।

Electron Beam Thin Film Deposition System

अर्धचालक उपकरण:

माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स के लिए ओमिक संपर्क निर्माण, गेट मेटलाइज़ेशन, और लिफ्ट{0}ऑफ प्रोसेसिंग।

Electron Beam Vacuum Evaporation Equipment

ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स:

ओएलईडी डिस्प्ले और फोटोवोल्टिक कोशिकाओं के लिए पारदर्शी प्रवाहकीय ऑक्साइड (टीसीओ) परतें और पतली फिल्में।

Electron Beam Evaporation Thin Film System

उन्नत अनुसंधान एवं विकास:

खोजपरक पतली {{0}फिल्म चुंबकीय परतें, अतिचालक फिल्में, और बहु{{1}परत हेटरोस्ट्रक्चर।

 

अनुकूलन एवं सिस्टम कॉन्फ़िगरेशन
 
 

प्रत्येक पतली फिल्म प्रणाली को विशिष्ट प्रक्रिया व्यंजनों और सुविधा लेआउट से मेल खाने के लिए कॉन्फ़िगर किया गया है। उपलब्ध इंजीनियरिंग अनुकूलन में शामिल हैं:

 

पम्पिंग स्टैक चयन:

बेस वैक्यूम और थ्रूपुट आवश्यकताओं के अनुरूप टर्बो {{0}आणविक पंप (टीएमपी), क्रायोपंप, या तेल {{1}प्रसार विन्यास।

 
 

लोड करें-लॉक एकीकरण:

अति उच्च वैक्यूम अखंडता को बनाए रखने और वेफर थ्रूपुट को बढ़ाने के लिए मैनुअल लोड {{0} लॉक या स्वचालित मल्टी {{1} चैम्बर क्लस्टर सिस्टम।

 
 

-सीटू मेट्रोलॉजी में:

स्पेक्ट्रोस्कोपिक एलिप्सोमीटर, ऑप्टिकल मॉनिटर, या अवशिष्ट गैस विश्लेषक (आरजीए) के लिए एकीकरण पोर्ट।

 
 

नियंत्रण सॉफ्टवेयर:

स्मार्ट फैक्ट्री एकीकरण के लिए रेसिपी स्टोरेज, डेटा लॉगिंग और एसईसीएस/जीईएम संचार प्रोटोकॉल के साथ मालिकाना पीएलसी/एचएमआई इंटरफ़ेस।

 

 

 
 
विनिर्माण एवं गुणवत्ता नियंत्रण
01.

पोत निर्माण:

सभी निर्वात कक्ष <1 × 10^-9 Pa·m³/s की अस्वीकृति सीमा के साथ हीलियम मास स्पेक्ट्रोमीटर रिसाव परीक्षण से गुजरते हैं।

02.

वेल्ड अखंडता:

टीआईजी वेल्डिंग को अक्रिय गैस परिरक्षण के तहत किया जाता है, इसके बाद आउटगैसिंग को कम करने के लिए आंतरिक सतह निष्क्रियता और यांत्रिक पॉलिशिंग की जाती है।

03.

फ़ैक्टरी स्वीकृति परीक्षण (एफएटी):

क्रेटिंग से पहले पंपिंग कर्व्स, ई-गन स्वीप प्रिसिजन, इंटरलॉक रिस्पॉन्स टाइम और थर्मल स्थिरता को मापने के लिए 72{1}घंटे लगातार ड्राई{{2}रन टेस्ट चलाएं।

04.

अनुपालन एवं मानक:

ISO 9001 प्रमाणित गुणवत्ता प्रबंधन प्रणाली के तहत निर्मित, CE निर्देशों और प्रासंगिक SEMI (S2/S8) सुरक्षा और एर्गोनोमिक दिशानिर्देशों को पूरा करने के लिए इंजीनियर किए गए सिस्टम के साथ।

 

स्थापना एवं तकनीकी सहायता
-साइट कमीशनिंग पर:
फ़ैक्टरी प्रमाणित सेवा इंजीनियर यांत्रिक स्थिति, उपयोगिता हुकअप (बिजली, ठंडा पानी, संपीड़ित हवा) और प्रारंभिक वैक्यूम बेक को संभालते हैं।
प्रक्रिया ट्यूनिंग:
जमाव दर, एकरूपता और फिल्म आसंजन को सत्यापित करने के लिए ग्राहक निर्दिष्ट सब्सट्रेट्स का उपयोग करके सहयोगात्मक परीक्षण चलता है।
जीवनचक्र रखरखाव:
एन्क्रिप्टेड औद्योगिक वीपीएन कनेक्शन के माध्यम से उच्च - घिसाव वाले घटकों (फिलामेंट्स, क्रूसिबल, शील्ड) और रिमोट डायग्नोस्टिक समर्थन के लिए गारंटीकृत स्पेयर पार्ट्स की उपलब्धता।

 

 

अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न

 

 

प्रश्न: मानक सिस्टम कॉन्फ़िगरेशन के लिए विशिष्ट लीड समय क्या है?

उत्तर: मानक कॉन्फ़िगरेशन ड्राइंग अनुमोदन के 16 से 20 सप्ताह के भीतर भेज दिया जाता है। अत्यधिक अनुकूलित प्रणालियों के लिए विशेष लोड {{3} लॉक कॉन्फ़िगरेशन या गैर {{4} मानक चैम्बर ज्यामिति की आवश्यकता होती है, जो 24 से 30 सप्ताह तक होती है।

प्रश्न: आप विभिन्न बाष्पीकरणकर्ताओं के बीच सामग्री क्रॉस {{0}संदूषण को कैसे रोकते हैं?

उत्तर: सिस्टम थर्मल और भौतिक बाधाओं से अलग किए गए अलग-अलग पानी के ठंडे चूल्हे का उपयोग करता है, जो अनुकूलित इलेक्ट्रॉन बीम स्वीपिंग पैटर्न के साथ मिलकर सामग्री के बिखराव को खत्म करता है।

प्रश्न: 10 किलोवाट प्रणाली के लिए सुविधा उपयोगिता आवश्यकताएँ क्या हैं?

A: Requirements typically include 3-phase 380V/480V AC power, closed-loop chilled water supply (10–15°C, flow rate >30 एल/मिनट), और वायवीय वाल्वों के लिए शुष्क संपीड़ित हवा (0.6-0.8 एमपीए)।

हम चीन में अग्रणी इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण पतली फिल्म उपकरण निर्माताओं और आपूर्तिकर्ताओं में से एक के रूप में जाने जाते हैं। यदि आप चीन में बने अनुकूलित इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण पतली फिल्म उपकरण खरीदने जा रहे हैं, तो हमारे कारखाने से मूल्य सूची प्राप्त करने के लिए आपका स्वागत है। मूल्य परामर्श के लिए, हमसे संपर्क करें।

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