आर्क वाष्पीकरण पीवीडी उपकरण

आर्क वाष्पीकरण पीवीडी उपकरण

विवरण
औद्योगिक कैथोडिक आर्क वाष्पीकरण पीवीडी प्रणाली निर्वात वातावरण में ठोस कैथोड लक्ष्यों को वाष्पीकृत करने के लिए कम {0}वोल्टेज, उच्च {{1}वर्तमान विद्युत आर्क का उपयोग करती है। यह तंत्र 80% से अधिक धातु आयनीकरण दर प्राप्त करता है, जो थर्मल वाष्पीकरण या मानक मैग्नेट्रोन स्पटरिंग की तुलना में उच्च रासायनिक बंधन शक्ति और सब्सट्रेट आसंजन सुनिश्चित करता है।
उत्पाद वर्गीकरण
आर्क वाष्पीकरण पतली फिल्म उपकरण
 
जांच भेजें
विवरण
तकनीकी पैरामीटर

औद्योगिक कैथोडिक आर्क वाष्पीकरण पीवीडी प्रणाली निर्वात वातावरण में ठोस कैथोड लक्ष्यों को वाष्पीकृत करने के लिए कम {0}वोल्टेज, उच्च {{1}वर्तमान विद्युत आर्क का उपयोग करती है। यह तंत्र 80% से अधिक धातु आयनीकरण दर प्राप्त करता है, जो थर्मल वाष्पीकरण या मानक मैग्नेट्रोन स्पटरिंग की तुलना में उच्च रासायनिक बंधन शक्ति और सब्सट्रेट आसंजन सुनिश्चित करता है।


निरंतर बहु-शिफ्ट उत्पादन के लिए इंजीनियर किया गया यह सिस्टम एक भारी-भरकम गेज स्टेनलेस स्टील वैक्यूम चैंबर, मॉड्यूलर कैथोड स्टीयरिंग असेंबली और एक पीएलसी आधारित स्वचालित प्रक्रिया नियंत्रण आर्किटेक्चर को एकीकृत करता है।

 

तकनीकी निर्देश

 

तकनीकी मापदण्ड

विशिष्टता रेंज/मूल्य

चैम्बर आयाम

कस्टम कॉन्फ़िगरेशन: Phi 800 मिमी x 1000 मिमी से Phi 2000 मिमी x 2200 मिमी

चैम्बर सामग्री

दोहरी {{0}दीवार वाली SUS304 या SUS316L स्टेनलेस स्टील, पानी {{3}कूल्ड जैकेट

परम वैक्यूम दबाव

<= 5.0 x 10^-4 Pa (after bakeout and outgassing)

पम्पिंग सिस्टम सेटअप

रोटरी वेन रफिंग पंप + रूट्स ब्लोअर + टर्बो-आण्विक / डिफ्यूजन पंप

आर्क विद्युत आपूर्ति

एडजस्टेबल डीसी आर्क करंट: 0 - 200 ए प्रति चैनल; इग्निशन वोल्टेज: 380 वी

सब्सट्रेट बायस पावर

स्पंदित डीसी पूर्वाग्रह: 0 - -1000 वी, आवृत्ति 10 - 100 किलोहर्ट्ज़

कैथोड स्रोत

4 - 12 चुंबकीय-कारावास वृत्ताकार या आयताकार चाप स्रोत

सब्सट्रेट रोटेशन

ग्रहीय या दोहरा {{0}अक्ष घूर्णन उच्च {{1}टोक़ चुंबकीय द्रव फ़ीडथ्रू द्वारा संचालित होता है

परिचालन तापमान

पीआईडी-नियंत्रित रेडियंट हीटर के साथ 600 डिग्री सेल्सियस तक परिवेश

नियंत्रण प्रणाली

सीमेंस एस7-1500 पीएलसी + एससीएडीए सॉफ्टवेयर चलाने वाला औद्योगिक पीसी

 

प्रमुख विशेषताऐं


उच्च आयनीकरण क्षमता:प्रत्यक्ष कैथोड वाष्पीकरण मध्यम तापमान पर घने, दोष नियंत्रित पतली {{1} फिल्म वृद्धि के लिए पूरी तरह से आयनित धात्विक प्लाज्मा का उत्पादन करता है।


चुंबकीय फ़िल्टर्ड आर्क विकल्प:इंटीग्रेटेड इलेक्ट्रोमैग्नेटिक स्टीयरिंग कॉइल्स सटीक टूलींग के लिए चिकनी कोटिंग फिनिश प्रदान करने के लिए मैक्रोपार्टिकल (ड्रॉपलेट) इजेक्शन को कम करते हैं।


बहु-परत/ग्रेडियंट जमाव:सिंक्रोनस मल्टी{0}}कैथोड ऑपरेशन वैक्यूम को तोड़े बिना श्रेणीबद्ध संक्रमण परतों (उदाहरण के लिए, Ti/TiN/TiAlN) के संश्लेषण को सक्षम बनाता है।


बंद-लूप प्रक्रिया नियंत्रण:लक्ष्य आंशिक दबाव बनाए रखने के लिए वास्तविक {{0}टाइम फीडबैक लूप उच्च {{1}सटीक द्रव्यमान प्रवाह नियंत्रकों (एमएफसी) के माध्यम से प्रतिक्रियाशील गैस प्रवाह (नाइट्रोजन, एसिटिलीन, ऑक्सीजन) को नियंत्रित करते हैं।

 

वैक्यूम सिस्टम कॉन्फ़िगरेशन


पम्पिंग स्टैक:प्राथमिक रफिंग में रूट्स ब्लोअर द्वारा समर्थित दोहरे -स्टेज रोटरी वेन पंप का उपयोग किया जाता है। उच्च-वैक्यूम प्राप्ति उच्च-थ्रूपुट प्रसार पंप या टर्बोमोलेक्यूलर पंप पर निर्भर करती है।


वाल्व और पाइपिंग:वायवीय कोण वाल्व और इलेक्ट्रोन्यूमेटिक गेट वाल्व चैम्बर जोन को स्वचालित रूप से अलग करते हैं। मैनिफोल्ड्स में सिल्वर {{1}प्लेटेड कॉपर सील्स या विटॉन ओ {{2}रिंग्स के साथ आईएसओ/केएफ और सीएफ फ्लैंज्ड स्टेनलेस स्टील टयूबिंग का उपयोग किया जाता है।


रिसाव का पता लगाना:एकीकृत हीलियम मास स्पेक्ट्रोमीटर परीक्षण पोर्ट 10^-10 Pa*m^3/s तक डायग्नोस्टिक्स सक्षम करते हैं।

 

वाष्पीकरण सामग्री और सब्सट्रेट संगतता


संगत कैथोड सामग्री
शुद्ध धातुएँ:
Ti, Cr, Al, Zr, Cu, Mo, W, Ag, TiAl मिश्र धातु (जैसे, 50/50 या 33/67 परमाणु अनुपात)।


यौगिक लक्ष्य:टीआईसी, सीआरसी, डब्ल्यूसी।


सब्सट्रेट अनुकूलता
टूल स्टील्स:
उच्च गति वाले स्टील (M2, H13) और सीमेंटेड कार्बाइड (WC{3}}Co आवेषण)।


संरचनात्मक मिश्र:स्टेनलेस स्टील, टाइटेनियम मिश्र धातु (TC4), और निकल- आधारित सुपर मिश्र धातु।


इंजीनियरिंग सिरेमिक:प्रवाहकीय पूर्व उपचार के साथ सिलिकॉन नाइट्राइड और एल्यूमिना।

 

अनुप्रयोग और सत्यापित प्रदर्शन मेट्रिक्स


काटने और बनाने के उपकरण:TiN, TiAlN, and AlTiN coatings on carbide drills and milling cutters. Achieves surface hardness >= 3000 एचवी और उपकरण घिसाव जीवन को 200% - 400% तक बढ़ाता है।


ऑटोमोटिव घटक:पिस्टन के छल्ले, टेपेट और ईंधन इंजेक्टर सुइयों पर एंटी-वियर कोटिंग। स्टील के विरुद्ध घर्षण के गुणांक को कम करके 0.15 - 0.25 कर देता है।


चिकित्सीय प्रत्यारोपण: Biocompatible TiN and ZrN layers applied to orthopedic joints and dental abutments, verified via scratch adhesion testing (Critical Load Lc >= 70 N).


सांचे और डाईज़:चिपकने वाले घिसाव को खत्म करने और वर्कपीस रिलीज को आसान बनाने के लिए प्लास्टिक इंजेक्शन और स्टैम्पिंग मोल्ड पर सीआरएन या डीएलसी कोटिंग।

 

अनुकूलन विकल्प


चैम्बर ज्यामिति:लंबवत पिट-प्रकार की लोडिंग या क्षैतिज फ्रंट{{1}लोडिंग कॉन्फ़िगरेशन।


स्रोत लेआउट:3डी वर्कपीस ज्यामिति (उदाहरण के लिए, लंबी एक्सट्रूज़न डाई या टरबाइन ब्लेड) के लिए अनुकूलित कस्टम कैथोड पोजिशनिंग।


पूर्वाग्रह जनरेटर उन्नयन:उच्च - शक्ति आवेग मैग्नेट्रोन स्पटरिंग (HIPIMS) हाइब्रिड मॉड्यूल का एकीकरण।


स्वचालन एकीकरण:क्लीनरूम वातावरण के लिए रोबोटिक लोडिंग इंटरफेस और स्वचालित फिक्स्चर ट्रांसफर रेल।

 

गुणवत्ता नियंत्रण एवं फैक्टरी परीक्षण


फ़ैक्टरी स्वीकृति परीक्षण (FAT) से पहले, सिस्टम को निम्न से गुजरना पड़ता है:


वैक्यूम रिसाव परीक्षण:सभी वेल्ड और सील पर हीलियम मास स्पेक्ट्रोमीटर सत्यापन।


विद्युत सुरक्षा सत्यापन:सीई/यूएल मानकों के अनुरूप इन्सुलेशन प्रतिरोध, जमीन की निरंतरता और इंटरलॉक लॉजिक जांच।


कार्यात्मक जलन-में:रोटेशन ड्राइव, फ्लो स्विच और पीएलसी संचार का 72-घंटे लगातार ड्राई-रन परीक्षण।


कोटिंग टेस्ट रन:नमूना जमाव को बॉल{{0}क्रेटर फिल्म मोटाई माप और रॉकवेल इंडेंटेशन स्क्रैच परीक्षण के माध्यम से सत्यापित किया गया।

 

स्थापना एवं तकनीकी सहायता


कार्यस्थल पर काम की तैयारी:Comprehensive utility layout documentation covering cooling water flow (>15 मीटर^3/घंटा, 20 - 25 डिग्री सेल्सियस), संपीड़ित हवा, वेंटिलेशन, और विद्युत बूंदें (380V/480V, 3-चरण, 50/60 हर्ट्ज)।


कमीशनिंग:वरिष्ठ प्रक्रिया इंजीनियरों द्वारा साइट पर इंस्टालेशन, वैक्यूम कैलिब्रेशन और रेसिपी अनुकूलन।


ऑपरेटर प्रशिक्षण:नियमित रखरखाव, लक्ष्य प्रतिस्थापन और SCADA संचालन को कवर करने वाले निर्देश पर हाथ।


बिक्री के बाद समर्थन:सुरक्षित औद्योगिक वीपीएन के माध्यम से दूरस्थ निदान पहुंच; 24 घंटे के भीतर तकनीकी प्रतिक्रिया की गारंटी।

 

अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्नों

 

प्रश्न: कैथोड लक्ष्य प्रतिस्थापन के लिए सामान्य टर्नअराउंड समय क्या है?

उ: त्वरित {{0}रिलीज़ मैकेनिकल क्लैम्पिंग फ़्लैंज ऑपरेटर को आंतरिक कक्ष परिरक्षण को नष्ट किए बिना प्रति स्रोत 30 - 45 मिनट के भीतर खर्च किए गए लक्ष्यों को बदलने की अनुमति देता है।

प्रश्न: क्या नियंत्रण प्रणाली एकाधिक रेसिपी प्रोफ़ाइल संग्रहीत कर सकती है?

उत्तर: हाँ. सीमेंस औद्योगिक पीएलसी 100 अलग-अलग व्यंजनों को संग्रहीत करता है, सफाई पूर्वाग्रह, हीटिंग अवधि, प्रतिक्रियाशील गैस रैंप, चाप वर्तमान स्तर और जमाव समय पर नज़र रखता है।

प्रश्न: साइट पर किस उपयोगिता बुनियादी ढांचे का प्रावधान किया जाना चाहिए?

उत्तर: सुविधाओं के लिए एक बंद लूप वाली ठंडा पानी प्रणाली, वायवीय वाल्वों के लिए संपीड़ित हवा (0.6 - 0.8 एमपीए), कुल कनेक्टेड लोड से मेल खाने वाली स्थिर 3-चरण औद्योगिक बिजली फ़ीड और स्थानीय निकास निष्कर्षण लाइनों की आवश्यकता होती है।

 

लोकप्रिय टैग: आर्क वाष्पीकरण pvd उपकरण, चीन आर्क वाष्पीकरण pvd उपकरण निर्माता, आपूर्तिकर्ता, कारखाने

जांच भेजें
हमसे संपर्क करेंयदि आपका कोई प्रश्न हो तो

आप हमसे फोन, ईमेल या नीचे दिए गए ऑनलाइन फॉर्म के माध्यम से संपर्क कर सकते हैं। हमारा विशेषज्ञ शीघ्र ही आपसे संपर्क करेगा।

अभी संपर्क करें!